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TU Berlin

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Über uns

Das Fachgebiet „Nano Interconnect Technologie“ (NIT) befasst sich mit der Erforschung und Entwicklung von physikalischen Modellen, Methoden und Techniken zum Aufbau und zur Kontaktierung von Bauelementen und Mikrosystemen zu sogenannten „Smart Systems“. Das schließt neben Fragen zu Materialien, Prozessen und zur Zuverlässigkeit der verschiedenen Technologien auch Aspekte der Anwendungsmöglichkeiten und der Lebensdauerbewertung ein.

 

Das Fachgebiet NIT arbeitet im Forschungsschwerpunkt Technologien der Mikroperipherik mit und beteiligt sich an den folgenden Gebieten:

•    Modellierung und Optimierung von Mikro-Nano-Kontaktierungstechnologien für elektronische Bauelemente, Mikrosysteme und Smart Systems

•    Technologien für extrem miniaturisierte und hochbelastbare Kontakte (überlagerte Belastungsarten, Elektro-, Thermo- und Stressmigration)

•    Nanomaterial- und -technologieeinsatz für die Kontaktierung (z.B. nanostrukturierte  Oberflächen, Carbon Nano Tubes, Nanorasen)

•    Parametrisierte Zuverlässigkeitsmodelle und Simulationstechniken für Nanokontakte (z.B. zur Elektromigration)

•    Entwicklung von Strukturen und Monitorverfahren für die Lebensdauervorhersage

•    Anwendung von Advanced Interconnect Technologien zum Aufbau von extrem miniaturisierten  Sensorknoten (eGrains)

 

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